平面光柵用在哪里
平面機械刻劃光柵**級閃耀自準直結構，線距、槽深及閃耀角的設計及生產質量決定能量的平均分配，使用光柵于自動準直令某波長(閃耀) 得到*大的衍射效率。特別優(yōu)化至激光應用的適用波長0.2 μm - 12 μm。

平面光柵是平場光柵符合各種應用，例如：

• 光譜學(例如：放射及原子光譜學)
• 單色儀
• 多色儀
• 激光技術
• 激光頻率穩(wěn)定/頻率調諧
• 激光脈沖擴展和壓縮
• 其他光學及非光學應用
• 光束分離
• 機械尺寸參考標淮值
• 高效益平面光柵應用于激光系統

配合偏振光使用的激光系統，更需要高效平面光柵，特別留意以下的設計及品質：

• 刻線頻率/ groove frequency
• 刻線剖面 / groove profile
• 表面鍍膜 / surface coating
• 毛坯材料 / blank material
• 衍射效率 / diffraction efficiency
• 波前準確性 / wavefront accuracy
• 分辨率 / resolution
• 成像特征 / imaging properties
• 輻射阻擋 / radiation resistance

光柵在激光波長的優(yōu)良效率有特殊意義，要得到高水平的效率，決定于偏光的方向中衍射效率。對激光光柵效率，只有中或低值的光柵才適合激光應用。

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